Kitul de filtru UV Nano-X 3 în 1 de la K&F Concept reprezintă o soluție pentru fotografii care utilizează camere foto FujiFilm, precum X100, X100S, X100V, X100F, X100T și X100VI.
Acest kit include:
- Filtru UV Nano-X MRC: Filtru de înaltă calitate cu nano-straturi avansate care reduc reflexiile și îmbunătățesc claritatea imaginii.
- Rezistent la apă și la zgârieturi: Ideal pentru utilizare în condiții meteo dificile.
- Cadru magnetic: Instalare și demontare ușoară, permițând schimbarea rapidă a filtrelor.
Specificații tehnice:
- Brand: K&F Concept
- Cod producător: SKU2335
- Diametru: 52mm
- Tip: UV
- Material: Sticlă optică japoneză
- Transmitanță luminoasă: Peste 99,9%
- Strat: 28 nano-straturi antireflex și de protecție
- Rezistență la apă: Da
- Rezistență la zgârieturi: Da
- Tip cadru: Aluminiu, extrem de subțire
- Conținut kit: 1x filtru UV, 1x ambalaj de protecție
- Tip
- Capac de obiectiv
- Brand compatibil
- Fujifilm
Informații importante
Specificațiile sunt colectate de pe site-urile oficiale ale producătorilor. Te rugăm să verifici specificațiile înainte de a finaliza comanda. În cazul în care întâmpini probleme, raportează aici.