Mască Peel cu acid hipocloros
Mască peel-off pentru curățarea porilor și a sebumului, cu acid hipocloros. Această mască de față este concepută pentru îndepărtarea impurităților și îmbunătățirea texturii pielii, oferind curățare și revitalizare.
- Curăță eficient porii
- Ajută la reducerea sebumului
- Încorporează acid hipocloros pentru o curățare blândă
Detalii produs
- Zonă țintă
- Fata
- Scop / Acțiune
- Curățare
- Ingredient activ
- Pantenol, Acid Hialuronic
- Utilizare [Listă Manuală]
- Dezlipire
- Tipul pielii
- Toate tipurile
- Premium
- Nu
- Dermato-cosmetice
- Nu
Cantitate
- Volum
- 13 ml
- Număr bucăți
- 1 buc
Informații importante
Specificațiile sunt colectate de pe site-urile oficiale ale producătorilor. Te rugăm să verifici specificațiile înainte de a finaliza comanda. În cazul în care întâmpini probleme, raportează aici.